浅沟渠隔离结构的制造方法 中国台湾 发明专利 I234228 2004/5/12 2024/5/11 11 具有自行对准接触窗之半导体元件及其制造方法 样本条款

浅沟渠隔离结构的制造方法 中国台湾 发明专利 I234228 2004/5/12 2024/5/11 11 具有自行对准接触窗之半导体元件及其制造方法. 中国台湾 发明专利 I254409 2005/2/16 2025/2/15

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